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PECVD系(xi)統(tong)配置：1.1200度開啟式雙溫區真(zhen)空管式爐2.等離子射頻(pin)電源3.多路(lu)質(zhi)量(liang)流量(liang)控制系(xi)統(tong)4.真(zhen)空系(xi)統(tong)（可選配中真(zhen)空或高(gao)真(zhen)空）

RTP快速退火爐(lu)操作便(bian)捷(jie)，電(dian)熱元件(jian)采用(yong)紅(hong)外燈管(guan)，升(sheng)溫速度快，節省(sheng)時間，滑動(dong)法蘭使(shi)裝卸樣(yang)品過(guo)程(cheng)簡(jian)化，方便(bian)操作，可快速得到實驗結果，取消了反復的法蘭安(an)裝過(guo)程(cheng)，減少了爐(lu)管(guan)因安(an)裝造成的損壞。

CVD管式爐(lu)設備由沉積溫度控件(jian)、沉積反應室、真空(kong)控制(zhi)部件(jian)和氣源控制(zhi)備件(jian)等(deng)(deng)部分組成亦可(ke)根據用戶需要設計(ji)生產，CVD系統除了主要應用在碳(tan)納米材料制(zhi)備行業外(wai)，現在正在使用在許多行業，包括納米電(dian)子學、半(ban)導體、光(guang)電(dian)工程的(de)研(yan)發、涂料等(deng)(deng)領(ling)域。

產品用途：此款(kuan)CVD系(xi)統適用于CVD工(gong)藝，如碳化(hua)硅(gui)鍍膜、陶瓷(ci)基(ji)片導電(dian)率(lv)測(ce)試(shi)、ZnO納米結構的可(ke)控生長、陶瓷(ci)電(dian)容（MLCC）氣(qi)氛(fen)燒結真空淬(cui)火退火，快速降溫(wen)等(deng)工(gong)藝實驗。

產品(pin)用途：此款CVD系(xi)統是專(zhuan)門為在(zai)金(jin)屬箔(bo)上(shang)生長薄膜而設(she)計，特別(bie)是應用在(zai)新(xin)一代能源關于柔性金(jin)屬箔(bo)電極(ji)方面的研(yan)究，通過滑動爐實現快速加(jia)熱和(he)冷卻。