產品用途：

此款CVD系(xi)統適(shi)用(yong)于CVD工藝(yi)，如(ru)碳化硅(gui)鍍膜、陶瓷基片導(dao)電率測試、ZnO納米結構的可(ke)控

生長、陶瓷(ci)電(dian)容（MLCC）氣氛燒結真(zhen)空淬火(huo)退火(huo)，快(kuai)速降溫等工藝(yi)實驗(yan)。

產品組成：

CVD系統配置：

1.1200度(du)開啟式真空管式爐(lu)（可選配(pei)多溫區）。

2.滑動(dong)(dong)系統(tong)分為(wei)手動(dong)(dong)、電動(dong)(dong)滑動(dong)(dong)，并配有風冷系統(tong)。

3.多路質量(liang)流量(liang)控制(zhi)系統

4.真(zhen)空系統（可選配(pei)中真(zhen)空或(huo)高真(zhen)空）

產品特點：

1 控制電(dian)路(lu)選用(yong)模糊PID程控技術，該(gai)技術控溫(wen)(wen)精(jing)度(du)高，熱(re)慣性小，溫(wen)(wen)度(du)不過沖，性能可靠，操(cao)作簡(jian)單(dan)。

2 中真空系統具有真空度上下限自動控制功能，高真空系統采用高壓強，耐沖擊分子泵，防止意外漏氣造成分子泵損壞，延長(chang)系統使(shi)用(yong)壽命。

3 (電動)滑動系統采用溫度控制器自動控制爐體移動，等程序完成，爐體按設定的速度滑動，因有滑動限位功(gong)能爐體不會發(fa)生碰(peng)撞，待樣品露出爐體后(hou)，通過風冷系統快(kuai)速降(jiang)溫。