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產品用(yong)途(tu)：此款CVD系統適用(yong)于CVD工藝，如碳化硅(gui)鍍膜、陶瓷基片(pian)導(dao)電(dian)率(lv)測試(shi)、ZnO納米(mi)結構(gou)的可控生長(chang)、陶瓷電(dian)容（MLCC）氣氛燒結真空淬火退火，快速降(jiang)溫等(deng)工藝實驗。

產品用(yong)(yong)途：此款CVD系統是專門為(wei)在(zai)金(jin)屬箔上(shang)生(sheng)長薄膜而設計，特別是應用(yong)(yong)在(zai)新一代能源關(guan)于柔性金(jin)屬箔電極(ji)方面的研(yan)究，通過滑動爐實現快速加熱和(he)冷(leng)卻。

CVD系(xi)統系(xi)周期(qi)作業，供(gong)企業實(shi)驗室(shi)，大專院校，科研(yan)院所等(deng)單位選(xuan)用，設備為用戶提供(gong)具體(ti)真空、可控氣(qi)氛及高(gao)溫的(de)實(shi)驗環境，應用在半導體(ti)，納米技術，碳(tan)纖維等(deng)新(xin)材料新(xin)工藝領域。