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CVD管式爐設備由沉(chen)積溫度控件(jian)、沉(chen)積反應室、真空控制(zhi)部件(jian)和氣源控制(zhi)備件(jian)等(deng)部分(fen)組成亦可根據用戶(hu)需要(yao)(yao)設計生產，CVD系(xi)統除了主要(yao)(yao)應用在碳納(na)米材料(liao)制(zhi)備行業(ye)外(wai)，現在正在使用在許多行業(ye)，包括(kuo)納(na)米電(dian)子學、半導體(ti)、光電(dian)工程的研(yan)發、涂(tu)料(liao)等(deng)領域。

CVD管式爐設備由沉積(ji)(ji)溫度控件(jian)、沉積(ji)(ji)反應(ying)室、真空控制(zhi)(zhi)部件(jian)和(he)氣源控制(zhi)(zhi)備件(jian)等(deng)部分組成亦可根(gen)據用戶需要設計生產，CVD系統除了主要應(ying)用在(zai)(zai)碳(tan)納(na)米材料制(zhi)(zhi)備行業(ye)外，現在(zai)(zai)正在(zai)(zai)使(shi)用在(zai)(zai)許(xu)多行業(ye)，包括納(na)米電子學、半導體、光電工程(cheng)的(de)研發、涂料等(deng)領域。