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RTP快速退火爐產品用途:
此款CVD生長系統適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等實驗。
RTP快速退火爐產品組成:
此款CVD系統配置:
1.1200度開啟式真空管式爐(可選配單溫區、雙溫區)。
2.多路質量流量控制系統
3.真空系統(可選配中真空或高真空)
產品特點:
1 控制電路選用模糊PID程控技術,該技術控溫精度高,熱慣性小,溫度不過沖,性能可靠,操作簡單。
2中真空系統具有真空度上下限自動控制功能,高真空系統采用高壓強,耐沖擊分子泵
防止意外漏氣造成分子泵損壞,延長系統使用壽命。
產品名稱 | RTP系列-滑(hua)動式快(kuai)速退火爐 |
產(chan)品型號 | RTP-G06123K-H |
額(e)定功(gong)率 | 9KW |
額定(ding)電(dian)壓(ya) | 220AC 50/60Hz |
極限溫度 | 1000℃ |
連續工作 | 950℃(<1 小時(shi)) |
加熱區長度 | 250mm |
恒溫區長度 | 200mm |
加熱(re)元件 | 紅外(wai)燈管(guan) |
溫(wen)度控制 | 國(guo)產程序控溫系(xi)統(tong)可編程50段程序控溫; |
控(kong)制精度 | ±1℃ |
石英管尺(chi)寸 | Φ60/Φ80/Φ100mm |
爐管材(cai)質 | 石(shi)英管 |
滑動距離 | 300mm |
大降(jiang)溫速度 | 900~200℃的降(jiang)溫速(su)度:15min |
zui快(kuai)升溫速度 | 50oC/S |
滑(hua)動控制(zhi) | 由溫(wen)度控制器自(zi)動(dong)(dong)控制爐體移動(dong)(dong). 當程序完成,爐體按(an)設(she)定的速度滑動(dong)(dong)。 |
流(liu)量(liang)計(ji) | 浮子流(liu)量計60-600ml/min |
滑(hua)軌尺寸 | 360 x1300x265mm |
外形尺寸 | 360x385x595mm |
重量 | 85Kg |
標準配置 | 氣(qi)路總成一(yi)套(含真空壓(ya)力表)石英管(guan)一(yi)支、石英堵三個、鉤(gou)子一(yi)把、高溫手套一(yi)副(fu)。 |
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