CVD系統設(she)備由沉積溫度(du)控件、沉積反(fan)應室、真空(kong)控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據用(yong)戶需要設(she)計生產(chan)，CVD系統除了主要應用(yong)在(zai)碳(tan)納米材料制備行業外，現在(zai)正在(zai)使用(yong)在(zai)許多行業，包括納米電子學、半導體、光電工程的研發、涂料等領(ling)域

　　實驗機(ji)理：CVD成長系統(tong)是(shi)利用氣態化合(he)(he)物或化合(he)(he)物的混(hun)合(he)(he)物在(zai)基體(ti)受熱面上發(fa)生(sheng)化學反應，從而在(zai)基體(ti)表(biao)面上生(sheng)成不揮發(fa)涂層的一種薄(bo)膜(mo)材(cai)料(liao)制備(bei)系統(tong)

　　CVD系統產品的特點：

　　1 CVD系統兼容、常(chang)壓(ya)、微正壓(ya)多種主流(liu)的(de)生長模(mo)式

　　2 CVD系統可以(yi)在1000Pa-0.1Pa之(zhi)間(jian)任意氣(qi)壓下進行(xing)石墨烯(xi)的生長

　　3 CVD系統(tong)使用計算機控(kong)制，可以設置多種(zhong)生長參數(shu)

　　4 CVD系統可(ke)以制備(bei)高(gao)質量，大面積石墨烯等(deng)碳材料(liao)，尺寸可(ke)達(da)數(shu)厘米，研究動(dong)力(li)學過程(cheng)

　　5 CVD系統沉積效率高;薄膜的成分可控，配比范(fan)(fan)圍大;厚(hou)度范(fan)(fan)圍廣，由幾(ji)百埃至數毫(hao)米(mi)，可以實現(xian)厚(hou)膜沉積且(qie)能大量生產