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產品用途
PECVD系(xi)統是借(jie)助射頻使含有(you)薄膜組成(cheng)原子的氣體(ti)電離(li),在局部形成(cheng)等離(li)子體(ti),而等離(li)子體(ti)化學(xue)活性很強(qiang),很容(rong)易發生反(fan)應,在基片(pian)上沉積出(chu)所(suo)期(qi)望的薄膜。
產品組成
PECVD系(xi)統配置(zhi);
1.1200度開啟式滑(hua)動單溫區真空管(guan)式爐(lu)
2.等(deng)離(li)子(zi)射(she)頻(pin)電源
3.多路(lu)質量流(liu)量控制系統
4.真(zhen)空系統(單(dan)獨購買)
產品(pin)特點
電源范圍廣;溫度范圍寬;濺射區(qu)域(yu)長;整管可調;精致小巧(qiao),性(xing)價比(bi)高,可實現快速升(sheng)降溫,是實驗(yan)室生長薄膜(mo)石(shi)墨烯,金屬(shu)薄膜(mo),陶瓷(ci)薄膜(mo),復合薄膜(mo)等的(de)理想選擇,也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。
系統名(ming)稱 | 集(ji)成型PECVD系統 | 1200℃小(xiao)型PECVD系(xi)統 |
系統型(xing)號 | PECVD-12IH-500A | PECVD-12IH-4Z/G |
控制方式 | 液晶屏微PLC控(kong)制系統 | 手動 |
極限溫度(du) | 1200℃ | |
加熱區長度 | 200mm | |
恒(heng)溫區長度 | 100mm | |
溫區 | 單溫區 | |
石英管(guan)管(guan)徑 | Φ60mm | Φ50mm |
額(e)定功率 | 1.2Kw | 2Kw |
額(e)定(ding)電(dian)壓 | 220V | |
滑(hua)動方式及距離 | 自(zi)動(dong)滑動(dong);200mm | 手動滑動;200mm |
溫度控制 | 30段程序控溫 | 50段程序控溫 |
控制(zhi)精度 | ±1℃ | |
爐管(guan)極限工作(zuo)溫度 | <1200℃ | |
氣路法蘭 | 采用(yong)多環(huan)密封技術卡(ka)箍快(kuai)速(su)連接 | |
排風(feng)冷卻(que)裝置 | 的空氣隔熱技(ji)術,結合熱感應技(ji)術,當爐體表面溫(wen)升(sheng)到50℃時, 排(pai)溫(wen)風扇將(jiang)自動啟動,使爐體表面快(kuai)速降溫(wen)。 | |
氣體控制方式 | 質量流量計(按鍵式) | |
氣路數(shu)量(liang) | 2路(2-4路) | 4路(lu)(可根(gen)據具(ju)體(ti)需要選配氣路(lu)數量) |
流量范圍 | 0-500sccm(標準毫升/分,可選配)氮氣標定(ding) | |
精(jing)度 | ±1%F.S | |
響應時間(jian) | 1sec | |
工作溫度(流(liu)量計) | 20-120℃ | |
工(gong)作壓力 | 進氣壓力0.05-0.3Mpa(表壓力) | |
進氣方式 | 采(cai)用防倒(dao)流(liu)設計 | |
規格 | 中真空(集成型(xing)請單獨購買) | |
系(xi)統真空范(fan)圍 | 10Pa-100Pa | |
真空泵 | 雙(shuang)級機械(xie)泵理論極限真空度3x10-1Pa,抽(chou)氣速率4L/S(選配:其他抽速(su)真空泵(beng)),出氣口配(pei)有油(you)污過濾器,額定(ding)電(dian)壓220V,功率0.55Kw | |
信(xin)號頻率 | 13.56MHz±0.005% | |
功(gong)率輸出范圍 | 0W-500W | 0W-100W |
大反射功率 | 350W | 30W |
射頻輸出接(jie)口 | 50Ω,N-type,temale | |
功(gong)率穩定度 | ±0.1% | |
諧波分量 | ≤-50dbc | |
供電(dian)電(dian)壓 | 單相交(jiao)流(187V-253V)頻(pin)率50/60HZ | |
整機功率(lv) | ≥70% | |
屏幕顯示(shi) | 正方向功率,匹(pi)配(pei)器電容位置(zhi)(zhi),偏置(zhi)(zhi)電壓(ya)值 | |
爐體外形尺寸(cun) | 290×350×340mm | 290×350×495mm |
系(xi)統(tong)外形尺寸 | 420×1440×1100mm | 530×2310×750mm |
系統總重量(liang) | 270Kg |
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