產品應用：二

PECVD系統是借助射頻使含有薄膜(mo)組成原子(zi)的(de)氣體(ti)電離，在局部形成等(deng)離子(zi)體(ti)，而等(deng)離子(zi)體(ti)化學活性很(hen)強，很(hen)容易發生反(fan)應，在基片上沉(chen)積出(chu)所(suo)期望的(de)薄膜(mo)。

產品組成：

PECVD系統配置：

1.1200度開啟式雙溫(wen)區真空管式爐

2.滑動(dong)系統分為手動(dong)、電動(dong)滑動(dong)，并配置管內測溫系統。

3.預(yu)加(jia)熱開(kai)啟式(shi)管式(shi)電爐(lu)

4.等離子射頻電源

5.多路質(zhi)量流量控(kong)制系(xi)統

6.真空(kong)(kong)系統（可選配中真空(kong)(kong)或(huo)高真空(kong)(kong)）  

產品特點：

生長溫度低；沉(chen)積速率快；成(cheng)膜質量好，適用范(fan)圍廣，設(she)備簡單。

天津(jin)中環電爐股(gu)份有限公司  地址：天津(jin)市北(bei)辰區北(bei)辰科技園(yuan)區雙川道11號